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UV納米壓印機(jī)

納米壓印技術(shù)是上世紀(jì)90年代Stephen Y Chou,針對(duì)傳統(tǒng)光刻受波長限制提出的類似于模板刻印的一種技術(shù)。它的原理是：將具有納米結(jié)構(gòu)的模板通過一定壓力，壓入加熱的熔融的高分子薄膜內(nèi)，待高分子材料冷卻，納米結(jié)構(gòu)定型，移去模板，然后再通過等離子體刻蝕等傳統(tǒng)的微電子加工手段把結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到基底上。過程如下圖所示：

由于熱壓印需要采用較高壓力，容易損壞模板，不利于模板多次使用，并且由于材料和襯底熱系數(shù)并不相同，容易造成納米結(jié)構(gòu)缺陷，于是G.G.Willson 提出了紫外固化壓印。該設(shè)備主要原理是：使用低粘度，流動(dòng)性好的聚合物滴到基板上，利用液體*的毛細(xì)現(xiàn)象，使光刻膠充滿模板，然后通過紫外光照射使其固化，然后脫模，刻蝕。過程如下圖所示

到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來多種類型，典型的包括熱塑壓印技術(shù)、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。

為了滿足市場(chǎng)日益增長對(duì)納米壓印的需求，上海昊量推出了UV納米壓印機(jī)。

該設(shè)備是基于紫外固化的納米壓印機(jī)，可提供2英寸；4英寸和6英寸不等的壓印尺寸。分辨率可做到由于10nm，并且擁有99%產(chǎn)率。

該設(shè)備的*之處是已獲得的自動(dòng)脫模技術(shù)。該設(shè)備可以通過軟件調(diào)節(jié)納米壓印腔體內(nèi)外的壓力，是模板從襯底上自動(dòng)脫模。并且可避免分離過程中造成基底和模板的損壞。

該產(chǎn)品擁有以下優(yōu)勢(shì)：

l 分辨率優(yōu)于10μm，產(chǎn)率優(yōu)于99%

l 同時(shí)適用于軟模和剛性模板

l 自動(dòng)脫模，防止模板和基板損壞

l 可壓印不同尺寸的模板和基片，方便靈活

l 可編程的PLC觸屏界面

l 對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)

應(yīng)用實(shí)例：

產(chǎn)品參數(shù)：

	AUV-200	AUV-400	AUV-600
Substrate size	2 inch standard	4 inch standard	6 inch standard
Imprint area	Same as wafer size
Imprint pressure	1 psi standard
UV exposure time	2-3 min at 95% intensity level

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UV納米壓印機(jī)

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